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光掩膜技術研發中心

       清溢(yi)一直奉行技(ji)術先導的(de)發展政策,公司成立(li)之初,國內制(zhi)作大面積(ji)光(guang)掩模(mo)的(de)技(ji)術和人(ren)才完全空(kong)白。在沒有任(ren)何外來(lai)技(ji)術援助的(de)情況下(xia),清溢(yi)科研(yan)(yan)人(ren)員在成立(li)的(de)第二年,就成功(gong)研(yan)(yan)制(zhi)了國內首(shou)張大面積(ji)高精度鉻版掩膜版。經(jing)過十(shi)余年的(de)自(zi)主創新和人(ren)才培養(yang),形成了完全自(zi)主的(de)核心(xin)技(ji)術和人(ren)才團隊。

 

        公司于2002年成(cheng)(cheng)立光掩模(mo)技(ji)術研(yan)究(jiu)開(kai)發(fa)中心,并于2007年經深(shen)圳市科技(ji)和信息局批準成(cheng)(cheng)立依托于清溢的(de)“深(shen)圳市光掩模(mo)技(ji)術研(yan)究(jiu)開(kai)發(fa)中心”。

 

        目前,清溢研(yan)發中心,正以“激活內腦、用活外腦”為方針,走產、學(xue)、研(yan)相結合(he)的道路,聯合(he)國內外相關(guan)企業和科研(yan)機構開創新技(ji)術(shu)來源,通過不(bu)斷的自主科技(ji)創新,推動(dong)中國高精度大(da)面積掩(yan)膜版制造(zao)行(xing)業趕超國際一流水平。

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